“池塘科技那个？”
人群骚动起来。
现在的池宏，在圈子里可是名副其实的红人。
ASML都要给他面子，45纳米芯片更是打了不少人的脸。
台上的高管愣了一下，显然没想到会有不速之客。
主持人赶紧跑过去递话筒，却被池宏摆手拒绝了。
他径直走上台。
站在那个高管身边，看着台下。
气场瞬间压过了一切。
“刚才这位先生说，摩尔定律死了？”
池宏开口了。
声音不大，却传遍了全场。
“抱歉，我不这么认为。”
他走到讲台旁边的黑板前——那是为了方便嘉宾临时画图准备的，但一直没人用。
池宏拿起一支白色的粉笔。
“滋——”
他在黑板上写下了两个词。
【FinFET】（鳍式场效应晶体管）。
【EUV】（极紫外光刻）。
字体苍劲有力，粉笔灰簌簌落下。
“摩尔定律没有死。”
池宏转身，指着黑板。
“半导体的进化不光不会停滞，还将会发生飞跃。”
台下一片哗然。
FinFET？
那是什么东西？
大多数人听都没听过。
只有角落里的梁猛松，原本迈出去的脚，硬生生地收了回来。
他猛地转过身，死死盯着黑板上那行字。
瞳孔剧烈收缩。
FinFET……
这可是他的看家本领！
是他在台积电内部提了无数次，却被高层以“激进、风险太大”为由否决的方案。
胡正明教授提出的理论，但工业界没人敢真正去尝试。
这个年轻人……
他竟然关注这个？
“平面晶体管的漏电问题，确实是物理极限。”
池宏的声音继续传来。
“但谁规定晶体管必须是平的？”
“如果我们将栅极立起来，做成鱼鳍的形状……”
池宏在黑板上画了一个立体的三维结构图。
寥寥几笔，勾勒出了FinFET的核心逻辑。
“三面栅极控制，漏电流降低50%，开关速度提升30%。”
“这就是20纳米以下的钥匙。”
梁猛松的心脏狂跳。
这是真行家！
这图画得太准了，甚至比他自己在脑海里构想的还要完美！
“还有EUV。”
池宏继续说道。
“193纳米的光源确实刻不出7纳米的线。”
“但13.5纳米可以。”
“有人说这是还要二十年才能实现的技术。”
“我说，三年。”
“只要我们敢想，敢干。”
池宏把粉笔头精准地弹进垃圾桶。
拍了拍手上的灰。
“我们应该相信，人类的征途是星辰大海，是原子尺度。”
“而不是未战先怯，放弃希望。”
“谢谢。”
说完，他看都没看那个目瞪口呆的高管一眼，转身走下台。
外企高管欲言又止。
但现在说这话的人是池宏——
是那个在一年不到的时间里，把45纳米量产出来的怪物。
即使想反驳，也得先掂量掂量自己手里的牌够不够硬。
足足过了五秒钟，才爆发出雷鸣般的掌声。
那些原本唯唯诺诺的国内工程师，此刻一个个挺直了腰杆，眼里闪着光。
还好，我们有池宏。
梁猛松站在角落里，呼吸急促。
他的手在颤抖。
那是遇到了知音的激动，也是被点燃了野心的战栗。
这个人……
懂我！
他懂我想干什么！
梁猛松看着池宏被人群包围，但他没有像其他人一样冲上去递名片。
他是梁猛松。
作为台积电技术部第一人。
他有他的傲气。
他在等。
果然。
池宏并没有在人群中停留太久。
他礼貌地拒绝了几个记者的采访，带着人往休息区走去。
路径很诡异。
不走直线，反而绕了个弯。
正好经过梁猛松所在的那个角落。
梁猛松下意识地压了压帽檐，想把自己藏在阴影里。
他只是稍微侧过头，对着身边的成旭，用一种不大不小，却恰好能让周围三米内的人听清的声音说道：
“成教授，咱们那三台浸没式光刻机，明天就要开始跑28纳米的全流程良率测试了。”
成旭一愣，不知道老板为什么突然在这儿提这个。
但他反应很快，立刻配合地点点头：
“是啊，万事俱备，就等开机了。”
“可惜啊。”池宏叹了口气，语气里带着几分惋惜，又像是自言自语。
“光刻胶配方我已经调到极致了，掩膜版也算好了。”
“但那个刻蚀的侧壁角度，总是差了那么0.5度。”
“要是能有个真正懂行的高手，帮我调调那个等离子体的浓度参数……”
他摇了摇头，似乎有些无奈。
“哪怕把良率提到50%，这事儿也就成了。”
说完，他脚步不停，继续往前走。
就像是一个路过的、正在和同事讨论工作难题的老板，对周围的一切都漠不关心。
一步、两步、三步。
梁猛松站在原地，手里的笔记本被捏得变了形。
浸没式光刻机？三台？
28纳米全流程？良率测试？刻蚀侧壁角度？
这每一个词，都像是一个钩子，精准地勾住了他的魂。
对于一个把半导体工艺刻进骨子里的人来说，这就好比是在一个饥肠辘辘的老饕面前，摆上了一桌刚出锅的满汉全席，还故意揭开了盖子让他闻味儿。
他的手在痒，他的脑子在转。
他想摸机器，想听晶圆在传送带上滑动的声音，想解决那个该死的侧壁角度问题！
0.5度？那是因为气体分压不对！或者是磁场偏置没调好！
只要让他上手，十分钟就能搞定！
这种近在咫尺的技术挑战，对他这种技术狂人来说，简直比任何金钱和地位都更有吸引力。
每一个词，都像是钩子，勾住了梁猛松的魂。
在学校教书的日子，就像是在坐牢。
看着那些笨得像猪一样的学生，看着那些几年前的落后设备。
他的心在滴血。
他是为了造芯而生的！
他的战场在无尘车间，在光刻机旁，而不是在黑板前！
眼看着池宏就要走进休息室的大门。
那扇门一旦关上，也许这辈子就再也没机会了。
“等等！”
梁猛松终于忍不住了。
他猛地推开挡在前面的两个保安，三步并作两步冲了上去。
“池总！”
他摘下鸭舌帽。
那一刻，他顾不上什么竞业协议，顾不上什么台积电的眼线。
他只想问个明白。
池宏停下脚步。
转身。
看着眼前这个气喘吁吁、眼神却亮得吓人的中年人。
嘴角勾起一抹不易察觉的微笑。
鱼，咬钩了。
“你是？”池宏故作不知。
“我……”
梁猛松咽了口唾沫，调整了一下呼吸。
他看着池宏，眼神锐利如刀。
“你刚才说的问题……”
“如果是用嵌入式SiGe（锗硅）工艺。”
“锗的浓度梯度，你是怎么设定的？”
“还有，沟道边缘的位错缺陷，你怎么控制？”
直球。
没有任何客套，上来就是最硬核的技术拷问。
这就是梁猛松的风格。
旁边的高承宣和顾天都听傻了。
这老头谁啊？
上来就背书？
池宏却笑了。
他看着梁猛松，眼神里满是欣赏。
“线性渐变。”
池宏淡淡地吐出四个字。
“从底部的15%递增到顶部的25%。”
“至于位错……”
池宏往前走了一步，凑到梁猛松面前。
“我们在外延生长之前，加了一道低温缓冲层工艺。”
“用碳掺杂来抑制硼扩散。”
“这样，缺陷密度可以降低两个数量级。”
梁猛松愣住了。
他的嘴唇微微颤抖。
对上了。
全对上了。
这就是他在脑海里模拟了无数遍、却始终没机会去验证的完美方案！
这个年轻人，不仅懂概念。
他连工艺细节都清清楚楚！
这哪里是老板？
这分明就是个长期呆在一线的顶级专家！
“你……”
梁猛松看着池宏。
那种遇到知己的狂喜，瞬间冲垮了他的理智。
“还有！那FinFET的鳍片高度……”
“高宽比5:1。”池宏抢答。
“倒梯形结构？”
“不，矩形，稍微带点锥度，为了方便刻蚀。”
“栅极材料呢？”
“高K金属栅（HKMG），后栅极工艺（Gate-Last）。”
两人就像是两个武林高手，在闹市街头突然过起招来。
语速越来越快，词汇越来越专业。
周围的人听得云里雾里，只觉得不明觉厉。
只有他们两个人知道。
这是一场灵魂的共振。
五分钟后。
梁猛松停了下来。
他长长地出了一口气，仿佛把这几年积攒的郁闷全都吐了出来。
痛快！
太痛快了！
这种棋逢对手的感觉，他已经很久没有体会过了。
“你赢了。”
梁猛松看着池宏，眼神复杂。
“你比我想象的，还要懂。”
“梁教授。”
池宏伸出手。
“这里太吵了。”
“隔墙有耳。”
他指了指周围那些竖着耳朵的记者和同行。
“我定了个包厢。”
“有好茶。”
“不如换个地方，我们好好聊聊……”
池宏的眼神变得深邃。
“怎么把这些图纸上的东西，变成真正的芯片。”
“怎么把那些不可能，变成可能。”