再就是曝光了，越细的线条，曝光强度需要越大。初代光刻机，普通汞灯就可以了，制造一些简单的电路板之类的。
而第二代光刻机，电路线路开始复杂，密集。想要刻制在很小的一个地方上，线条就要细。因为线条不细，两条线条相碰，那就直接废了。
线条细的问题，江成上次离开深圳的时候，就已经通过设计的几套透镜组合方式解决了。在曝光方面，从香江那边采购高压汞灯可以解决。
科技中心这边唯一要做的就是设计出一套精密的操控设备，来达到各种角度和距离的偏差都在某个纳米的数值之下。
并且跟初代光刻机不同的是，必须使用无尘操作间了。因为到了第二代的水平，空气中的尘埃在显微镜下，大小已经不比线路细了。
在曝光的时候，如果有尘埃正好在线路之间，直接会让产品报废变成不合格。
最难的透镜组合设计被江成完成了，要是黄文仪她们一整个团队，连精控设备这方面都搞不定，那她这后世芯片之母就有点名不副实了。
现在科技中心这边有了重大进展，就是第二代光刻机已经制造出来了。可能很多地方还需要完善，让它的速度更快，更灵活，误差更小。
但是已经满足了大规模集成电路的制造，甚至是固态处理芯片也可以加工了。
这意味着两点，一是‘大哥大’样式的移动手机还没正式投放市场，已经可以生产小型号的手机了。
另外就是大江公司也可以制造电脑计算机了，这个年代很小内存的一台电脑都要上万，目前主要运用在辅助计算工作上面。
这也是科技中心很需要的辅助设备，就算是生产上千台电脑，也只够自用的，后期要的更多。能自产电脑，别说卖了，光内部使用，按照现在进口电脑的价格，能节省上亿。
而黄文仪想制造大规模集成电路，实际上也是想往电脑计算机方面发展。
有了光刻机，黄文仪算是终于可以朝着自己研发的方向去探索了。
第二代光刻机的研制成功，只是一个开始。一台光刻机起不了多大的作用，得几十台才能形成规模。
而光刻机的制造本身就不是一个简单的过程，很难形成流水线式生产。一台机器的制造组装和调试的团队，就要三十人左右，加上其他相关人员。
一台光刻机需要五十至八十位专业的人员，并且在不出现材料配件缺少的情况下，都需要二三个月完成。
而目前科技中心这边最多也就能组织一个专业的生产团队，只能一台一台的去生产。一年的产量最多只有五台左右。
这个年代的一台光刻机，一个月能处理几十到一百左右晶圆。这所谓的晶圆，说简单点，就跟印刷邮票一样，邮票是一版一版的印刷的，芯片是一片晶圆一片晶圆的制造出来的。
一片晶圆可制作成百商千颗裸片，测试合格后再切割成独立的芯片，然后再进行封装和测试。
所以一台光刻机一个月能制造出几万块芯片，不过几万块芯片听上去多，这还得看集成度高不高。
像这个年代的电脑，集成度并不高，一台电脑能有几十上百颗芯片。
这意味着要依靠自己的芯片来生产电脑，还要成型达到规模，没有一年多的时间实现不了。现在的光刻机得优先生产移动手机的芯片。