虽然明眼人皆知其偏颇，但在信息碎片化的时代，却足以混淆一部分人的视听，掀起一阵舆论的波澜。
李兴汉关掉了屏幕上那些喧嚣的报道和评论区里刺眼的言论，嘴角那抹淡淡的嘲弄并未消失，反而加深了些许。
他面前的另一块屏幕上，显示的是一份技术简报汇总，时间戳是数月之前。
“ASML的NXE:4000，终于追上来了，不容易。”李兴汉对坐在对面的王闻涛说道，语气平静得像是在评论天气。
“12nm确实是个里程碑。不过，他们大概以为，这就能重新确立领先优势。”
王闻涛会意地笑了笑，他虽然不负责半导体业务方面的工作，但消费者事业群这边的手机和电脑研发部门与半导体芯片设计部门的合作是非常紧密的，也大概听了一些消息，知道半导体事业群的制程不可能一直停留在16nm，或许早就已经实现了突破。
想到这他索性直接问道：“老板，咱们应该早就已经有12nm制程的技术储备了吧？”
李兴汉笑了笑没有回答，把文件展示在王闻涛眼前。
那是一份简洁的内部通报，标题是：《关于“燧人氏”项目首台工程样机验收及后续技术攻关任务圆满完成的通知》，日期是今年3月。
文件的核心内容只有寥寥数语，却重若千钧。
报告显示，由国内顶尖光机所、光学企业、材料院所与星汉科技半导体设备部门联合攻关的“极光”项目，早在今年三月就已成功研制出首台国产EUV光刻机工程样机，并通过了严格的验收测试。
该样机在初步测试中，已将国产光刻机的理论制程能力从之前的最高40nm，一举提升到了16nm水平。
“事实上，我们的EUV光刻机，‘燧人氏-I型’，早在今年Q1就已经走出了实验室，完成了工程验证。”李兴汉的声音平稳地说道。
“之所以没有大张旗鼓地宣传，是因为当时我们利用成熟的DUV光刻机结合‘等效FinFET晶体管封装技术’，已经能够量产性能相当于16nm制程的芯片，完全满足当时大部分市场需求，包括‘星魂’AI的早期专用芯片。
‘燧人氏-I型’的16nm能力，在性能上没有带来代际提升，更多是技术路径的验证和自主可控的保障。”
他切换了图片，展示出更近期的数据图表和复杂的工艺流程图。
“我们把这几个月的时间，用在了更关键的地方。
让‘燧人氏’与我们的‘等效封装’技术深度结合，并攻克EUV多重曝光技术的工程化难题。”
“我们的团队没有满足于16nm，而是集中力量，研究如何利用‘燧人氏’的光源和光学系统，结合我们独创的、在DUV时代就已磨练到极致的多重曝光和先进封装技术，将制程极限向前推进。”
说完，李兴汉指向图表上一条陡然下探的曲线：“就在上周，联合工艺验证线传来最终测试结果。
基于‘燧人氏’改进型光源和光学系统，结合我们最新的四重曝光技术和优化后的EUV兼容型等效封装方案，我们成功在实验线上，稳定流片了逻辑制程为7nm的测试芯片。良率已经达到可接受的小批量试产水平。”
7nm！
这个数字，如同一道无声的惊雷，在安静的办公室里回荡。
这意味着，在ASML刚刚宣布其第二代EUV可支持12nm/10nm制程的时候，东方的自主EUV光刻工艺，已经悄然摸到了7nm的门槛，并且在最体现技术整合难度的“良率”上，取得了关键突破。
“ASML以为他们刚爬上了一座小山丘，可以停下来喘口气，嘲笑一下还在平地上的人。”李兴汉关闭了屏幕，靠向椅背，语气中带着一种俯瞰棋局的从容。
“却不知道，有人已经沿着另一条路，登上了旁边更高的山峰，正在欣赏他们未曾见过的风景。
他们重新夺回的制程领先，从宣布的那一刻起，就已经落后了。”
王闻涛深吸一口气，即使早有心理准备，听到7nm稳定流片的消息，仍然感到心潮澎湃：“李总，那我们现在……？”
“既然他们想用EUV光刻机来证明‘西方科技’的优越性，想在半导体领域跟我们‘竞赛’，那我们就成全他们。
是时候，让‘燧人氏’见见光了。
不过，也不用那么迫不及待，继续7nm工艺设计的玄极PG-300显卡预计下个月底就能上市发售。
我们可用实实在在的产品，宣告‘燧人氏’的到来。”
就在网络上的喧嚣、唱衰与嘲讽声浪随着ASML的新闻达到一个高峰时，星汉科技的官方社交媒体账号与官网，悄然更新了一条简洁而信息量十足的消息，配上了一张充满未来科技感的动态概念图：
【玄极·新境|探索无垠算力边界——玄极PG-300系列显卡新品发布会，敬请期待。】